森泰克刻蚀机Etchlab 200 适用于氟基气体以及氧气、氩气等工艺气体，具有非常高的工艺稳定性和重复性。升级增加预真空室后，可使用氯基气体、完成金属、化合物...

森泰克感应耦合等离子刻蚀机SI 500干法刻蚀系统广泛应用于半导体制造、微纳加工、MEMS制造等领域。它可以用于刻蚀多种材料，包括但不限于三五族化合物半导体（如...

简要描述：原子层蚀刻设备是一种的蚀刻技术，可精准的控制其蚀刻深度。随着元件尺寸的进一步减小，需要进一步的使用ALE才能达到其所需的精度。

简要描述：感应耦合电浆蚀刻是在标准反应离子蚀刻（RIE）的基础上，添加电感耦合电浆的。感应耦合电浆由磁场围绕石英晶体管所提供。产生的高密度电浆被线圈包围，將充当...

简要描述：反应离子蚀刻设备机器中可以非常精确地控制其蚀刻轮廓、蚀刻速率和均勻性，并具有重复性。等向性蚀刻以及非等向性蚀刻都是可能的。

简要描述：RIE等离子刻蚀机SI 591：预真空室和计算机控制的等离子体刻蚀工艺条件，使得SI 591 具有优异的工艺再现性和等离子体蚀刻工艺灵活性。灵活性、模...

简要描述等离子蚀刻机Etchlab 200根据其模块化设计，可升级为更大的真空泵组，预真空室和更多的气路。

简要描述：等离子刻蚀机由于离子能量低，离子能量分布带宽窄，因此可以用我们的等离子体刻蚀机SI 500进行低损伤刻蚀和纳米结构的刻蚀。

简要描述：深硅刻蚀机三螺旋平行板天线(PTSA)等离子源是SENTECH等离子体工艺设备的属性。PTSA源能生成具有高离子密度和低离子能量的均匀等离子体。它具有...

简要描述：反应离子刻蚀机我们的等离子蚀刻设备包括用功能强大的用户友好软件与模拟图形用户界面，参数窗口，工艺窗口，数据记录和用户管理。

简要描述：英国光栅刻蚀三螺旋平行板天线(PTSA)等离子源是SENTECH等离子体工艺设备的属性。PTSA源能生成具有高离子密度和低离子能量的均匀等离子体。它具...

日本倾斜角RIE等离子蚀刻机的简介：日本倾斜角刻蚀代表了直接置片等离子刻蚀机家族，它结合了RIE的平行板电极设计和直接置片的成本效益设计的优点。Etchlab2...

简要描述：进口深硅刻蚀：三螺旋平行板天线(PTSA)等离子源是SENTECH等离子体工艺设备的属性。PTSA源能生成具有高离子密度和低离子能量的均匀等离子体。它...

简要描述：RIE等离子刻蚀机2我们的等离子蚀刻设备包括用功能强大的用户友好软件与模拟图形用户界面，参数窗口，工艺窗口，数据记录和用户管理。

简要描述：RIE等离子刻蚀机该等离子刻蚀机配备了用户友好的强大软件，具有模拟图形用户界面，参数窗口，工艺编辑窗口，数据记录和用户管理。

简要描述：ICP-RIE等离子刻蚀机三螺旋平行板天线(PTSA)等离子源是SENTECH等离子体工艺设备的属性。PTSA源能生成具有高离子密度和低离子能量的均匀...